Baza aktów prawnych Unii Europejskiej Cytaty odnotowujące konkretne użycie tłumaczeń słów angielsko-polskich i polsko-angielskich umieszczone w serwisie Translatica.pl pochodzą z Bazy danych DGT-TM, która jest wyłączną własnością Komisji Europejskiej i została udostępniona bezpłatnie i bez ograniczeń terytorialnych. Data dostępu do bazy 02.09.2019. Dokładne informacje nt. pochodzenia źródła tłumaczenia oraz daty powstania dokumentu w bazie DGT-TM zostały umieszczone pod poszczególnymi cytatami wraz z aktywnym odnośnikiem do oryginalnego dokumentu z bazy.
Lista cytatów w języku polskim i angielskim zawierająca frazę: maska
Powierzchnię obszaru uderzenia oraz strefy uderzenia oblicza się na podstawie projektu
maski
oglądanej z płaszczyzny poziomej usytuowanej nad pojazdem i równoległej do zerowej płaszczyzny poziomej, w...
...area as well as the surface areas of the impact zones shall be done on the basis of a projected
bonnet
when viewed from a horizontal plane parallel to the horizontal zero plane above the vehicle,
Powierzchnię obszaru uderzenia oraz strefy uderzenia oblicza się na podstawie projektu
maski
oglądanej z płaszczyzny poziomej usytuowanej nad pojazdem i równoległej do zerowej płaszczyzny poziomej, w oparciu o dane zamieszczone na rysunkach dostarczonych przez producenta.
The calculation of the surface of the impact area as well as the surface areas of the impact zones shall be done on the basis of a projected
bonnet
when viewed from a horizontal plane parallel to the horizontal zero plane above the vehicle, on the basis of the drawing data supplied by the manufacturer.
Widok z góry tylnego narożnika
maski
— przedłużenie tylnej linii odniesienia maski do zetknięcia z boczną linią odniesienia na łuku obwodu wzorca
Plan view of rear corner of
bonnet
— extending the bonnet
rear reference line to meet the side reference line along the circumferential arc of template
Widok z góry tylnego narożnika
maski
— przedłużenie tylnej linii odniesienia maski do zetknięcia z boczną linią odniesienia na łuku obwodu wzorca
Plan view of rear corner of
bonnet
— extending the bonnet
rear reference line to meet the side reference line along the circumferential arc of template
...poddawania działaniu substancji drogą inhalacyjną należy przeprowadzać przy użyciu przyrządu z
maską
inhalacyjną umożliwiającą narażenie tylko przez nos lub tylko głowy, aby zapobiec wchłanianiu
Inhalation treatments are to be conducted using a “nose-cone” or “head-only” apparatus to prevent absorption by alternate routes of exposure (8).
Zabiegi poddawania działaniu substancji drogą inhalacyjną należy przeprowadzać przy użyciu przyrządu z
maską
inhalacyjną umożliwiającą narażenie tylko przez nos lub tylko głowy, aby zapobiec wchłanianiu substancji innymi drogami narażenia (8).
Inhalation treatments are to be conducted using a “nose-cone” or “head-only” apparatus to prevent absorption by alternate routes of exposure (8).
W momencie pierwszego zetknięcia oś impaktora zbiega się z linią odniesienia krawędzi czołowej
maski
z tolerancją ±10 mm (zob. rys. 3) i z tolerancją ±10 mm w bok od wybranego miejsca uderzenia.
At the time of first contact the impactor centre line shall be coincident with the
bonnet
leading edge reference line with a ±10 mm tolerance (see Figure 3), and laterally with the selected impact...
W momencie pierwszego zetknięcia oś impaktora zbiega się z linią odniesienia krawędzi czołowej
maski
z tolerancją ±10 mm (zob. rys. 3) i z tolerancją ±10 mm w bok od wybranego miejsca uderzenia.
At the time of first contact the impactor centre line shall be coincident with the
bonnet
leading edge reference line with a ±10 mm tolerance (see Figure 3), and laterally with the selected impact location with a tolerance of ±10 mm.
Uwaga:Pozycja 3B001.h. nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazowym, zaprojektowanych do wytwarzania urządzeń pamięciowych, nie objętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note:3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga:Pozycja 3B001.h. nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazowym, zaprojektowanych do wytwarzania urządzeń pamięciowych, nie objętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note:3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga: Pozycja 3B001.h nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nie objętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note: 3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga: Pozycja 3B001.h nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nie objętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note: 3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga: Pozycja 3B001.h. nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nie objętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note: 3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga: Pozycja 3B001.h. nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nie objętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note: 3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga:Pozycja 3B001.h nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nieobjętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note:3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga:Pozycja 3B001.h nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nieobjętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note:3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga:Pozycja 3B001.h nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nieobjętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note:3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Uwaga:Pozycja 3B001.h nie obejmuje kontrolą wielowarstwowych
masek
z warstwą z przesunięciem fazy, zaprojektowanych do wytworzenia urządzeń pamięciowych, nieobjętych kontrolą przez pozycję 3A001.
Note:3B001.h. does not control multi-layer
masks
with a phase shift layer designed for the fabrication of memory devices not controlled by 3A001.
Należy przeprowadzić co najmniej trzy badania uderzenia modelu górnej części nogi w krawędź czołową
maski
, z których każde powinno mieć miejsce pośrodku oraz na zewnętrznych trzecich częściach...
A minimum of three upper legform to
bonnet
leading edge tests shall be carried out, one each to the middle and the outer thirds of the bonnet leading edge at positions judged to be the most likely to...
Należy przeprowadzić co najmniej trzy badania uderzenia modelu górnej części nogi w krawędź czołową
maski
, z których każde powinno mieć miejsce pośrodku oraz na zewnętrznych trzecich częściach krawędzi czołowej maski, w punktach określonych jako miejsca o największym prawdopodobieństwie spowodowania obrażeń.
A minimum of three upper legform to
bonnet
leading edge tests shall be carried out, one each to the middle and the outer thirds of the bonnet leading edge at positions judged to be the most likely to cause injury.
Wyznaczenie punktu odniesienia narożnika; punkt przecięcia się linii odniesienia krawędzi czołowej
maski
z boczną linią odniesienia
Determination of corner reference point; intersection of the
bonnet
leading edge reference line and the side reference line
Wyznaczenie punktu odniesienia narożnika; punkt przecięcia się linii odniesienia krawędzi czołowej
maski
z boczną linią odniesienia
Determination of corner reference point; intersection of the
bonnet
leading edge reference line and the side reference line
Kabina kierowcy (konfiguracja wysunięta do przodu lub z kabina z
maską
) (z):
Driving cab (forward control or
bonneted
) (z):
Kabina kierowcy (konfiguracja wysunięta do przodu lub z kabina z
maską
) (z):
Driving cab (forward control or
bonneted
) (z):
Kabina kierowcy (konfiguracja wysunięta do przodu lub z kabiną z
maską
) z):
Driving cab (forward control or
bonneted
) (z):
Kabina kierowcy (konfiguracja wysunięta do przodu lub z kabiną z
maską
) z):
Driving cab (forward control or
bonneted
) (z):
W przypadku
masek
, których górna powierzchnia jest nachylona pod kątem 50°, co oznacza, że liniał pomiarowy nie styka się z nią w jednym punkcie, lecz w wielu punktach lub w sposób ciągły, linię...
For vehicles having the
bonnet
top surface inclined at 50°, so that the straight edge makes a continuous contact or multiple contacts rather than a point contact, determine the reference line with...
W przypadku
masek
, których górna powierzchnia jest nachylona pod kątem 50°, co oznacza, że liniał pomiarowy nie styka się z nią w jednym punkcie, lecz w wielu punktach lub w sposób ciągły, linię odniesienia należy wyznaczyć odchylając liniał pomiarowy do tyłu o 40°.
For vehicles having the
bonnet
top surface inclined at 50°, so that the straight edge makes a continuous contact or multiple contacts rather than a point contact, determine the reference line with the straight edge inclined rearwards at an angle of 40° from the vertical.
Ponadto sewofluran jest niezbędny w indukcji znieczulenia przez
maskę
u źrebiąt, ponieważ nie jest środkiem drażniącym, w przeciwieństwie do izofluranu, który wywołuje kaszel i wstrzymanie oddechu.
Furthermore sevoflurane is essential for
mask
induction of anaesthesia in foals as it is completely non-irritant as opposed to isoflurane, which is irritant and therefore causes coughing and breath...
Ponadto sewofluran jest niezbędny w indukcji znieczulenia przez
maskę
u źrebiąt, ponieważ nie jest środkiem drażniącym, w przeciwieństwie do izofluranu, który wywołuje kaszel i wstrzymanie oddechu.
Furthermore sevoflurane is essential for
mask
induction of anaesthesia in foals as it is completely non-irritant as opposed to isoflurane, which is irritant and therefore causes coughing and breath holding.
...u koni ze złamaniami kończyn i innymi urazami ortopedycznymi oraz indukcja znieczulenia z użyciem
maski
u źrebiąt.
Purpose: inhalation anaesthesia for horses with limb fractures and other orthopaedic injuries and
mask
induction of anaesthesia in foals.
Przeznaczenie: znieczulenie wziewne stosowane u koni ze złamaniami kończyn i innymi urazami ortopedycznymi oraz indukcja znieczulenia z użyciem
maski
u źrebiąt.
Purpose: inhalation anaesthesia for horses with limb fractures and other orthopaedic injuries and
mask
induction of anaesthesia in foals.
...oraz z tylną linią odniesienia maski lub gdy punkt zetknięcia wzorca i tylnej linii odniesienia
maski
znajduje się wewnątrz łuku wyznaczonego przez punkty „C” i „D”, stosuje się dodatkowe wzorce,
...line, or the point at which the bonnet rear reference line and template touch lies within the arc
scribed
by points ‘C’ and ‘D’, then additional templates shall be used where the radii are...
Jeżeli wzorzec nie może zetknąć się jednocześnie z boczną linią odniesienia maski w punktach „A” i „B” oraz z tylną linią odniesienia maski lub gdy punkt zetknięcia wzorca i tylnej linii odniesienia
maski
znajduje się wewnątrz łuku wyznaczonego przez punkty „C” i „D”, stosuje się dodatkowe wzorce, których promienie są powiększane skokowo o 20 mm, do momentu spełnienia wymienionych powyżej kryteriów.
If the template cannot make simultaneous contact with the side reference line at points ‘A’ and ‘B’ and tangentially with the bonnet rear reference line, or the point at which the bonnet rear reference line and template touch lies within the arc
scribed
by points ‘C’ and ‘D’, then additional templates shall be used where the radii are increased progressively in increments of 20 mm, until all the above criteria are met.
W momencie uderzenia model głowy stosowany w badaniach uderzenia w grzbiet
maski
znajduje się w „ruchu swobodnym”.
The headform impactor for the
bonnet
top test shall be in ‘free flight’ at the moment of impact.
W momencie uderzenia model głowy stosowany w badaniach uderzenia w grzbiet
maski
znajduje się w „ruchu swobodnym”.
The headform impactor for the
bonnet
top test shall be in ‘free flight’ at the moment of impact.
Jeśli tylna linia odniesienia
maski
znajduje się w odległości zawinięcia większej niż 2100 mm, tylną linię odniesienia maski wyznacza miejsce geometryczne o odległości zawinięcia równej 2100 mm.
If the
bonnet
rear reference line is located at a wrap around distance of more than 2100 mm, the bonnet rear reference line is defined by the geometric trace of the 2100 mm wrap around distance.
Jeśli tylna linia odniesienia
maski
znajduje się w odległości zawinięcia większej niż 2100 mm, tylną linię odniesienia maski wyznacza miejsce geometryczne o odległości zawinięcia równej 2100 mm.
If the
bonnet
rear reference line is located at a wrap around distance of more than 2100 mm, the bonnet rear reference line is defined by the geometric trace of the 2100 mm wrap around distance. maski
przeciwgazowe, pochłaniacze i wyposażenie dekontaminacyjne do nich, przeznaczone lub zmodyfikowane dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materiałami promieniotwórczymi "przystosowanymi...
Gas
masks
, filter canisters and decontamination equipment therefor designed or modified for defence against biological agents or radioactive materials "adapted for use in war" or chemical warfare... maski
przeciwgazowe, pochłaniacze i wyposażenie dekontaminacyjne do nich, przeznaczone lub zmodyfikowane dla ochrony przed czynnikami biologicznymi i materiałami promieniotwórczymi "przystosowanymi do użycia w działaniach wojennych" lub przed chemicznymi środkami bojowymi, a także części specjalnie do nich zaprojektowane;
Gas
masks
, filter canisters and decontamination equipment therefor designed or modified for defence against biological agents or radioactive materials "adapted for use in war" or chemical warfare (CW) agents and specially designed components therefor; 
